ASML宣布扩产30%：AI芯片制造瓶颈或将松绑

周三，ASML向投资者宣布，计划在未来两年每年将产能提升30%，并年内第二次上调2026年营收预期。这表明，制造先进AI芯片的设备或许不再是行业最紧的瓶颈。对于所有建设数据中心和训练大模型的公司而言，这一点至关重要，因为ASML的光刻设备位于英伟达、台积电及存储芯片制造商供应链的最上游。

数月来，AI技术的限制一直追溯到这家荷兰公司。ASML是唯一一家生产极紫外（EUV）光刻机的企业，这种设备用于制造现代AI服务器所需的纳米级电路。据Semafor报道，ASML每年仅能生产数台EUV设备，给行业增长设置了人为上限。此次产能扩张意味着这一上限将变得不那么显著。

ASML预计2026年全年营收为430亿至450亿欧元（约490亿至510亿美元），较此前360亿至400亿欧元的指引高出16%。第二季度销售额同比增长21%，净销售额达93亿欧元，净利润29亿欧元。年初以来，ASML股价已上涨75%，公告当日股价上涨3.7%至1613欧元。

CEO Christophe Fouquet表示，预期上调基于客户信息，称“芯片印刷”系统需求“极其强劲”，客户“正加速产能扩张计划”，使ASML更清晰地看到长期订单。Degroof Petercam分析师Michael Roeg评价本季度各方面均“爆发式”增长。

市场分析师认为，这一消息的影响远不止ASML本身。投行ING的Marc Hesselink在报告中指出：“光刻限制的缓解对整个设备生态系统也是利好，ASML此前被视为关键瓶颈。”如果光刻工艺不再成为限制因素，焦点将转向堆栈的其余部分：先进封装、高带宽内存，以及支持谷歌、亚马逊等公司建设数据中心所需的电力和冷却基础设施，这些数据中心用于托管OpenAI、Anthropic等公司开发的模型。

ASML的客户名单清晰说明了其订单增长的原因：ASML向台积电（英伟达芯片的代工商）、三星和SK海力士提供EUV设备。Semafor报道称，英特尔和台积电的出色业绩可能预示着未来新需求。同时，ASML宣布其High NA EUV技术已达到里程碑，可生产首个高量产逻辑产品，意味着该公司正寻求将最先进产品投入量产。

ASML的垄断地位源于无竞争对手生产EUV机器，在尖端芯片光刻领域没有直接对手。日本的尼康和佳能在较不先进的深紫外光刻技术领域提供竞争，但未涉足EUV。因此，ASML的任何产能决策都会影响整个芯片市场。值得关注的是，ASML客户是否会落实其扩张计划，是否会在2026年底前下实单，以及30%的额外产能将多快投入使用。在设备交付之前，预测仍只是预测。