ASML产能扩张30%，AI芯片瓶颈有望缓解

7月15日，ASML向投资者宣布，计划在未来两年内将产能提升30%，并再次上调2026年营收预期。这意味着，制造先进AI芯片的机器可能不再是行业中最严重的瓶颈。对于所有建设数据中心和训练大模型的公司来说，这一消息至关重要，因为ASML的光刻设备位于英伟达、台积电和内存制造商供应链的最前端。

数月来，AI技术的瓶颈一直追溯到一家荷兰公司。ASML是唯一一家生产极紫外（EUV）光刻机的公司，这些设备用于制造现代AI服务器中纳米级电路的存储和逻辑芯片。Semafor称，ASML每年只能生产几台这种设备，从而对行业增长造成了人为限制。产能提升将使这一限制变得不那么显著。

ASML预计2026年全年营收为430-450亿欧元（490-510亿美元），较此前360-400亿欧元的指引增长16%。第二季度销售额同比增长21%，净销售额达到93亿欧元，净利润29亿欧元。自年初以来，ASML股价已上涨75%，公布当日股价上涨3.7%至1613欧元。

CEO Christophe Fouquet表示，预期增长基于客户信息，芯片制造系统的需求“极其强劲”，客户“继续加速产能扩张计划”，使ASML对长期订单有了更清晰的认识。Degroof Petercam分析师Michael Roeg称，该季度在所有方面都取得了“爆炸性”结果。

市场分析师认为，这一消息的影响不仅限于ASML。据路透社报道，Marc Hesselink在一份报告中表示：“光刻限制的缓解对整个设备生态系统也是积极的，ASML一直被视为关键瓶颈。”如果光刻工艺不再是限制因素，焦点将转移到其他环节：先进封装、高带宽内存以及数据中心所需的电力和冷却基础设施。

ASML的客户名单解释了其订单簿增长的原因。ASML向台积电、三星和SK海力士提供EUV设备。有报道称，英特尔和台积电取得的出色成绩可能预示着未来的新需求。同时，ASML宣布其High NA EUV技术已实现生产就绪里程碑，将寻求将最先进产品投入批量生产。

ASML没有直接竞争对手制造EUV设备，因此拥有垄断地位。日本厂商尼康和佳能提供不太先进的深紫外光刻技术，但不涉及EUV。ASML产能的任何决定都可能影响整个芯片市场。值得关注的是，ASML的客户是否会执行其扩张计划，以及30%的额外产能何时投入使用。